Target per sputtering
Una gamma completa di target per sputtering, dal grado commerciale all’ultra-puro, realizzati per qualsiasi sistema o su misura.
- Target di metalli puri
- Al, Sb, Bi, B, Cd, Ce, Cr, Co, Cu, Dy, Er, Eu, Gd, Ge, Au, C, Hf, Ho, Ir, In, Fe, La, Pb, Lu, Mn, Mo, Mg, Nd, Nb, Ni, Pd, Pt, Pr, Re, Ru, Sm, Sc, Se, Si, Ag, Ta, Tb, Te, Sn, Tm, Ti, W, V, Yb, Y, Zr, Zn.
- Target in lega
- AlCu, AlCr, AlMg, AlSi, CoCr, CoCrMo, CoFe, CoFeB, CoNi, CoPt, CrSi, CuGa, CuIn, CuNi, IrMn, MoSi, NiAl, NiCr, NiFe, NiTi, SmCo, TiAl, TiNi, WRe, WTi, ZrAl e composizioni su misura.
- Target ceramici
- Boruri: CrB₂, HfB₂, LaB₆, TiB₂, ZrB₂. Carburi: B₄C, Cr₃C₂, HfC, SiC, TaC, TiC, WC, ZrC. Nitruri: AlN, BN, GaN, HfN, Si₃N₄, TaN, TiN, ZrN.
- Target di ossidi
- Al₂O₃, BaTiO₃, CeO₂, Cr₂O₃, HfO₂, In₂O₃, ITO, Fe₂O₃, MgO, Nd₂O₃, SiO₂, SrTiO₃, Ta₂O₅, TiO₂, SnO₂, WO₃, Y₂O₃, ZnO, ZrO₂ e altri.
- Seleniuri, solfuri, tellururi, fluoruri
- Bi₂Se₃, CdSe, ZnSe, MoSe₂, CdS, MoS₂, ZnS, Bi₂Te₃, CdTe, GeTe, PbTe, AlF₃, CaF₂, MgF₂, YF₃ e altri.
- Su ordinazione
- AZO, Cr-SiO, CIGS, ITO, IGZO, GaAs, GaP, GaSb, InSb, InAs, InP, LSMO, YBCO, LCMO, YSZ, GeSbTe e altri.