Elettronica e film sottili
Target per sputtering, materiali per evaporazione e metalli ad alta purezza per film sottili e semiconduttori.
Target
Target di metalli puri, leghe, ceramici, ossidi e calcogenuri, con o senza bonding, per qualsiasi sistema.
Metalli ad alta purezza
Venti elementi da 4N a 7N, tra cui gallio, indio, tellurio e rame.
Polveri
Nanopolveri e polveri di ossidi, incluso l’ITO.